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中芯國際稱7nm EUV光刻機問題已解決 技術研發步入正軌

在半導體工藝進入10nm節點之后,制造越來越困難,其中最復雜的一步——光刻需要用到EUV光刻機了,而后者目前只有荷蘭ASML阿斯麥公司才能供應。中芯國際去年也訂購了一臺EUV光刻機,日前該公司表示與ASML之間已解決光刻機的問題,EUV技術研發步入正軌。

前不久有消息稱ASML停止對中芯國際供應EUV光刻機,隨后ASML公司表示不是停供,而是延期,主要是在準備該國政府的出口申請文本工作。

中芯國際董事長周子學日前在韓國訪問,韓媒報道稱周子學表態已經解決了與ASML之間就光刻機供應存在的問題,強調中芯國際在先進工藝上的研發、生產一直處于穩定的軌道上,與客戶及設備供應商之間沒有任何問題。

ASML公司是EUV光刻機目前唯一的供應商,今年四季度,ASML預計交付8臺EUV光刻機,平均每臺價格達到了1.2億歐元,折合人民幣9.3億元,堪稱人類最昂貴的設備了。

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